足浴系统技术方案
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本实用新型专利技术涉及足浴设备的生产及制造领域，具体涉及一种足浴系统，足浴系统包括供给站和足浴设备，供给站包括站体，能供足浴设备停靠，站体设有储水箱，储水箱可与停靠于站体的所述足浴设备的足浴腔水路连通，储水箱用于给足浴设备的足浴腔供水，从而供给站能够快速给停靠的足浴设备供水，在所述足浴设备离开基站时通过电池供电给第二加热组件，第二加热组件能够给足浴腔的水进行保温加热，防止水温降低影响泡脚效果，以保证用户使用足浴器时水温能持续满足需求。能持续满足需求。能持续满足需求。
[0001]本技术涉及足浴设备的生产及制造领域，具体涉及足浴系统及足浴设备的供给站。
[0002]足浴设备用于对足部进行按摩泡脚，现有的足浴设备具有盆体，为了更方便客户的日常使用，在盆体底部设有加热系统，以将水加入盆体中进行加热。但是，用户通常需要在卫生间的水龙头等位置接冷水，然后将足浴设备移动到泡脚的位置，接通电源，对足浴设备的水进行加热，这一系列的过程用户需要移动足浴设备，给用户带来使用操作上的不便。
[0003]本公开的目的在于提供一种足浴系统及足浴设备的供给站，能够克服热水等待时间长的问题。[0004]本公开提供一种足浴系统，包括：[0005]供给站和足浴设备，所述供给站包括站体，所述足浴设备能够移动到所述站体上停靠或离开所述站体，所述站体设有储水箱，所述足浴设备包括足浴腔，所述储水箱可与停靠于所述站体的所述足浴腔通过水路连通，所述储水箱用于给所述足浴腔供水；[0006]所述足浴设备还包括第二加热组件和电池，所述第二加热组件与所述足浴腔水路连通，所述电池与所述第
1.一种足浴系统，其特征在于，包括：供给站和足浴设备，所述供给站包括站体，所述足浴设备能够移动到所述站体上停靠或离开所述站体，所述站体设有储水箱，所述足浴设备包括足浴腔，所述储水箱可与停靠于所述站体的所述足浴腔通过水路连通，所述储水箱用于给所述足浴腔供水；所述足浴设备还包括第二加热组件和电池，所述第二加热组件与所述足浴腔水路连通，所述电池与所述第二加热组件电连接并给所述第二加热组件供电，以使所述第二加热组件能够在所述足浴设备离开所述站体时对所述足浴腔的水进行加热。2.根据权利要求1所述的足浴系统，其特征在于，所述站体还设有第一加热组件，所述第一加热组件与所述储水箱水路连通，所述第一加热组件用于对所述储水箱的水进行加热；和/或所述站体具有供电接口，所述足浴设备上设有充电接口，所述第二加热组件还与所述充电接口电连接，所述足浴设备停靠在所述站体上时，所述供电接口能与所述充电接口连接以给所述第二加热组件直接供电。3.根据权利要求1或2所述的足浴系统，其特征在于，所述站体设有支撑架和围板，所述围板设置有多块，多块所述围板设于所述支撑架，且围设形成容纳腔，所述容纳腔用于容纳所述足浴设备的至少一部分；所述储水箱设于所述支撑架，所述储水箱与所述足浴腔连通的水路延伸到所述容纳腔，所述储水箱能给停靠于所述容纳腔的所述足浴设备的所述足浴腔供水。4.根据权利要求3所述的足浴系统，其特征在于，所述储水箱底部设有单向阀，所述支撑架上设有与所述单向阀配合连接的接头，在所述储水箱安装在所述支撑架上时，所述单向阀被所述接头顶开，使水从所述储水箱流出。5.根据权利要求4所述的足浴系统，其特征在于，所述储水箱上设有出水头，所述单向阀设置在所述出水头上，所述单向阀具有进水端和出水端，所述进水端和所述出水端连通；所述单向阀包括阀座、活塞、弹簧和安装座，所述出水头的内孔的孔壁上设有台阶面，所述阀座设置在所述台阶面上，所述活塞位于所述阀座内并能相对所述阀座活动，所述安装座安装在所述进水端并与所述出水头固定，所述弹簧设置在所述活塞上与所述安装座之间，所述接头用于推动所述活塞向所述进水端内移动，所述弹簧用于使所述活塞复位；和/或所述进水端的直径大...
